塑料成（chéng）型工藝中描述的拋光（guāng）與其他（tā）行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應（yīng）稱為鏡麵拋（pāo）光。它不（bú）僅對拋光

本身有（yǒu）很高的要求，而且對表麵平（píng）整度、的平滑度和幾何精度也有（yǒu）很高的標準。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解拋光、流體拋光的過程中（zhōng），它是難以準確地控製各部分的（de）幾何精度，由於化學拋光所述（shù）超聲波拋光（guāng）、磁（cí）性拋光（guāng）的、表麵質量不是必需的，精密模具主要是基於（yú）機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂（shā）紙（zhǐ）實驗室和（hé）煤（méi）油協會。

　　2、精密拋光主（zhǔ）要（yào）製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的（de）金剛（gāng）石研磨膏你可以使用（yòng）方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級（jí）的氈和金（jīn）剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的（de）拋光工藝

必須是絕對清潔（jié）的空間，用於拋光（guāng）模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光（guāng）表麵，可在（zài）工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序（xù），高質量的拋光效果，最重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最（zuì）重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光（guāng）程序的選擇取決於先前加工的表麵（miàn）狀況，例如、 EDM加工（gōng），磨削。

　　4、機（jī）械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研（yán）磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見（jiàn）的（de）方（fāng）法是使用（yòng）直（zhí）徑為3 mm、 WA＃400的輪（lún）子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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