隨著塑料製（zhì）品日溢廣泛的應用，如日（rì）化用品和飲（yǐn）料包（bāo）裝容器等，外觀的需要往往要求塑料模（mó）具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片（piàn）、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度（dù）要求極高，因而對（duì）拋光性的要求也極高。

拋光不僅增加工件（jiàn）的美觀，而且能（néng）夠改善材料表麵的（de）耐腐蝕性、耐（nài）磨性，還可以使模具擁有其它優點，如使塑料製品易於脫模（mó），減少生產注塑周期等。因而（ér）拋光在塑料模具（jù）製作過程中是很重要的（de）一道工序。

目前常用的（de）拋光方法有以下幾種：

1.1 機械拋光

機械拋光是*切削、材料表（biǎo）麵塑性變形去掉（diào）被拋光後（hòu）的凸部而得（dé）到（dào）平滑麵的拋（pāo）光方法（fǎ），一般使用油（yóu）石條、羊（yáng）毛輪、砂紙等（děng），以手工操作為主，特殊零（líng）件如回轉體表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量 要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨料（liào）的研拋液中，緊壓在工件（jiàn）被加工表麵上，作高速旋轉運動（dòng）。利用該技術可以達到（dào）Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各（gè）種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用（yòng）這種（zhǒng）方法。

1.2 化學拋光

化學（xué）拋光是讓材料在化學介質中表（biǎo）麵微觀凸出的部分（fèn）較凹（āo）部分優（yōu）先溶解，從而得到平滑麵。這（zhè）種方法（fǎ）的主要優點是不需（xū）複雜設備（bèi），可（kě）以拋光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多（duō）工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的（de）表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解拋光

電解拋光基本原理與化學拋光相同，即*選擇性的溶解材料表麵微（wēi）小凸出部分（fèn），使表麵光滑。與化學拋光相比，可以（yǐ）消（xiāo）除陰極反應的（de）影響，效果較好。電化學拋（pāo）光過程分為兩步：

（1）宏觀（guān）整平 溶（róng）解（jiě）產物向電（diàn）解液中擴散（sàn），材料表麵幾何粗糙（cāo）下降，Ra＞1μm。

（2）微光平（píng）整 陽極極化，表麵光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋（pāo）光

將工件放入磨料懸浮液中並（bìng）一起置（zhì）於（yú）超聲波場中，依（yī）*超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引（yǐn）起工件變形，但工裝製（zhì）作和安裝較（jiào）困難。超聲波加工可（kě）以與化學或電化學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲（shēng）波振（zhèn）動攪（jiǎo）拌溶液，使工件表麵溶（róng）解產（chǎn）物脫離，表麵附近的腐（fǔ）蝕或電（diàn）解質均勻；超（chāo）聲波（bō）在液體中的空化（huà）作用還能夠抑製腐蝕過程，利於表麵光亮（liàng）化

1.5 流體拋光

流體拋光（guāng）是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常（cháng）用方法有：磨料噴（pēn）射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜（xié）帶磨粒的液體介（jiè）質高速往複流過工件（jiàn）表麵。介質主要采（cǎi）用在較低壓力下流過性好（hǎo）的（de）特（tè）殊化合物（聚合物狀物質（zhì））並摻上磨料製成，磨料可采（cǎi）用碳化矽粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨（mó）拋光是利用磁性磨料（liào）在磁場作用下（xià）形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法（fǎ）加工效率高，質量好，加工條件（jiàn）容（róng）易（yì）控製，工作條件好（hǎo）。采用合適的磨料（liào），表麵粗糙度可（kě）以（yǐ）達到（dào）Ra0.1μm。

在塑（sù）料模具加工中（zhōng）所說的拋光與其（qí）他行業中所要求的表麵拋光有很大的（de）不同，嚴格來（lái）說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它（tā）不僅對拋光本身有很高的要求並且對（duì）表麵平整（zhěng）度、光滑度以及幾（jǐ）何精確度也有很高（gāo）的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光（guāng）亮的表麵即可。

鏡（jìng）麵加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋光等方法很難精確控製零件（jiàn）的（de）幾何精確度，而化學拋光（guāng）、超聲波拋光、磁研磨拋（pāo）光等方（fāng）法（fǎ）的表麵質量又達不到要（yào）求，所以精密模（mó）具的鏡麵加工還是以機（jī）械拋光為主。

機械拋光基本程序

要（yào）想獲得高質量的拋光效果，最重要的是要具（jù）備有高質量的（de）油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋（pāo）光程序的選擇取決於前期加（jiā）工後的表麵狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後（hòu）的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋（xuán）轉表麵拋光機或（huò）超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有（yǒu）利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去（qù）除白色電火（huǒ）花層。然後是手工油石研磨，條狀油石（shí）加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了（le）節約時間而選（xuǎn）擇從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用（yòng）砂紙和煤油。砂紙的號數依（yī）次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙（zhǐ）隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以（yǐ）上），而不適用於預硬鋼，因為這樣可能會導致預硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋（pāo）主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布（bù）輪（lún）混合鑽（zuàn）石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常（cháng）的研磨（mó）順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏（gāo）和拋光（guāng）布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下（xià）的發狀磨痕。接著用粘（zhān）氈和鑽石研磨膏進行拋（pāo）光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋（pāo）光（guāng）工藝在模具加工車間中（zhōng）一個清潔的拋光室內即可（kě）進行。若進行更加精密的拋光（guāng）則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時（shí）工作後得到的高（gāo）精密（mì）拋光表麵。

機械拋光中要注意的問題

用砂紙（zhǐ）拋光應注意以下幾（jǐ）點：

1、用砂紙拋光需要利用軟（ruǎn）的木棒或竹棒。在拋光（guāng）圓麵或球麵時，使用軟木棒可（kě）更好的配合圓麵和球麵（miàn）的弧度。而（ér）較硬（yìng）的木條像櫻桃木，則更適用於平整表麵的拋光。修整木條的末端使其能與鋼件表麵形狀保（bǎo）持吻合，這樣可以避免木條（或竹（zhú）條）的銳角接觸鋼件表麵而造成較（jiào）深（shēn）的劃痕。

2、當換用（yòng）不同型號的砂紙時，拋光方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰影即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾取酒精之類（lèi）的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦（cā）拭，因為一顆很（hěn）小的沙礫留（liú）在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光換成鑽（zuàn）石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前，所有顆粒和煤油都（dōu）必須被完全清潔幹淨。

3、為了（le）避免擦傷和（hé）燒傷（shāng）工件表麵，在用（yòng）#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別（bié）小心（xīn）。因而有（yǒu）必（bì）要加載一個輕載（zǎi）荷以及采用兩步拋光法對表麵進（jìn）行拋光（guāng）。用每一種型號（hào）的砂紙進行拋光時（shí）都（dōu）應沿兩個不同方向進（jìn）行兩次拋光，兩個方向之（zhī）間每次轉動（dòng）45°~ 90°。

鑽石（shí）研磨拋光應注意以下幾點：

1、這（zhè）種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為（wéi）100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準度很難做到。

為了更容易做到這一點，可以在木條上做一個薄且窄的手（shǒu）柄，比如加一（yī）銅片；或（huò）者在竹條上切去一部分而使其更加柔軟。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模具表（biǎo）麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時（shí），不（bú）僅（jǐn）是工（gōng）作表麵要求潔淨，工作者（zhě）的雙手也必須仔細清潔。

3、每（měi）次拋光時間不應過長（zhǎng），時間越短，效（xiào）果越好（hǎo）。如果（guǒ）拋光過程進行得過長將會（huì）造（zào）成“橘皮”和“點蝕”。

4、為獲（huò）得高質量的拋光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的熱（rè）量會很容易造成“橘皮”。

5、當拋光（guāng）過程停止時，保證工件表麵潔淨和仔細去除所有研（yán）磨劑和潤滑劑非常重要，隨後應在表（biǎo）麵噴淋一層模具防鏽塗層。

由於機械（xiè）拋（pāo）光主要還是*人工完成，所以拋（pāo）光（guāng）技術目前還是影響拋光質量的主要原因（yīn）。除此之外，還（hái）與模具材料、拋光（guāng）前的（de）表麵狀（zhuàng）況、熱處理工藝等有關。優質的鋼材是獲得良好拋光質（zhì）量的前提條件，如果鋼材表麵硬度不（bú）均或特性上有差異，往往會產生拋光困難。鋼材中的各種夾（jiá）雜物和氣孔都不利（lì）於拋光。

不（bú）同硬度對拋光工（gōng）藝的（de）影響

硬度增高使（shǐ）研磨的困難增大，但拋光後的粗糙度減小。由於硬度的增高，要達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應增長。同時（shí）硬度增高，拋光過度的（de）可能性相應（yīng）減少。

工（gōng）件表麵狀況對拋光工藝的影響（xiǎng）

鋼材在切削機械加工的破（pò）碎過程中（zhōng），表層會因熱量、內應力或其他因素而損（sǔn）壞，切削參數不（bú）當會影響拋光效果（guǒ）。電火花加工後的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更（gèng）難研磨，因此電火花加工結束前應采（cǎi）用精規準電（diàn）火花修整，否則表麵會形成硬化薄層。

如果電火花精修規準（zhǔn）選擇不當，熱影響層的深（shēn）度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體硬度高，必須去除。因（yīn）此最好增加一道粗磨加工，徹底清除損壞表麵層，構成一片平均粗糙的金屬麵，為拋光加工提供一個良好基礎。

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